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摘 要:近年，ICF研究中需要用到愈來愈多的合金腔靶或平面靶，其中這些合金材料中有相當一部分無法通過真空鍍膜等手段得到。但是，研究發(fā)現，某些無法由真空鍍膜獲得的合金薄膜可以通過電鍍或化學鍍等技術獲得，而且所得薄膜性能（如均勻性等）優(yōu)異。因此，電鍍合金技術等在ICF靶用合金薄膜的研究中具有十分重要的現實意義。[第一段]
摘 要:近年，ICF研究中需要用到愈來愈多的合金腔靶或平面靶，其中這些合金材料中有相當一部分無法通過真空鍍膜等手段得到。但是，研究發(fā)現，某些無法由真空鍍膜獲得的合金薄膜可以通過電鍍或化學鍍等技術獲得，而且所得薄膜性能（如均勻性等）優(yōu)異。因此，電鍍合金技術等在ICF靶用合金薄膜的研究中具有十分重要的現實意義。[第一段]
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