公開號(hào)       101974770

公開日       2011.02.16

申請(qǐng)人  北京航空航天大學(xué)

地址  北京市海淀區(qū)學(xué)院路37號(hào)

本發(fā)明公開了一種電沉積銥層的水溶液及其在該溶液中電沉積制備銥層的方法，配制100 mL的所述水溶液中含有銥化合物0.3 ~ 8.0 g(以銥計(jì))、應(yīng)力降低劑0.002 ~ 0.09 mol、導(dǎo)電鹽0.002 ~ 0.120 mol、pH緩沖劑0.002 ~ 0.060 mol。電沉積銥層工藝參數(shù)為： pH = 2.0 ~ 5.0，陰極電流密度0.01 ~ 4.00 A/dm²，攪拌速率60 ~ 1 500 r/min，溫度70 ~ 90 °C，時(shí)間1 ~ 50 h，電沉積后用去離子水沖洗，在35 ~ 55 °C下干燥5 ~ 30 min后，陰極板材表面制得顆粒尺寸為0.1 ~ 1.5 μm的銥層。制備的銥層平整、致密、顆粒均勻，且無裂紋。