摘 要:采用熔鹽電解法在碳陰極上電鍍TiB2鋁電解用惰性陰極材料,電解溫度800℃,電解質(zhì)組成(質(zhì)量分數(shù),%)為KCI4.8,KF55.7,K2TiF615.3,KBF424.2,電流密度為0.3A/cm2,電解3h.對制得的鍍層做XRD和EMP電子探針形貌分析,實驗結果表明,鍍層成分為單一的TiB^2。無雜相.鍍層厚度可達0.2mm,表面平整,分布均勻,與碳基體結合良好,且有金屬光澤·說明該電解條件下,Ti和B能夠在陰極上共沉積并生成TiB2.
摘 要:采用熔鹽電解法在碳陰極上電鍍TiB2鋁電解用惰性陰極材料,電解溫度800℃,電解質(zhì)組成(質(zhì)量分數(shù),%)為KCI4.8,KF55.7,K2TiF615.3,KBF424.2,電流密度為0.3A/cm2,電解3h.對制得的鍍層做XRD和EMP電子探針形貌分析,實驗結果表明,鍍層成分為單一的TiB^2。無雜相.鍍層厚度可達0.2mm,表面平整,分布均勻,與碳基體結合良好,且有金屬光澤·說明該電解條件下,Ti和B能夠在陰極上共沉積并生成TiB2.