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摘 要:以ZrO2和WO3為原料，通過(guò)兩步燒結(jié)法制備具有負(fù)熱膨脹性的鎢酸鋯（ZrW2O8）粉體，利用X射線衍射（XRD）對(duì)合成粉體進(jìn)行分析。在含ZrW2O8粉體的酸性鍍銅溶液中進(jìn)行復(fù)合電鍍，就電流密度、電鍍時(shí)間以及添加劑對(duì)復(fù)合鍍層中ZrW2O8粉體含量的影響進(jìn)行分析，并利用掃描電鏡（SEM）對(duì)不同條件下鍍層表面的微觀形貌進(jìn)行觀察與分析。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：電流密度控制在2A／dm^2時(shí)，鍍層中能獲得較高的粉體含量；隨著電鍍時(shí)間延長(zhǎng)，粉體在鍍層中含量呈峰值變化：鍍液中添加十六烷基三甲基溴化氨（CTAB）或十二烷基硫酸鈉（SDS）并不利于復(fù)合鍍層中ZrW2O8粉體含量的提高。[著者文摘]
