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處理鍍鉻液中雜質(zhì)離子的裝置.pdf

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【專利號(申請?zhí)?】200720040345.5

【公開(公告)號】CN201071402

【申請人(專利權(quán))】徐建中

【申請日期】2007-7-25 0:00:00

【公開(公告)日】2008-6-11 0:00:00

本實(shí)用新型提供一種處理鍍鉻液中雜質(zhì)離子的裝置,包括電解槽,所述電解槽設(shè)置有進(jìn)液口和出液口,所述出液口與鍍鉻設(shè)備的電鍍槽連通,所述進(jìn)液口連通泵的出液管,所述泵的進(jìn)液管與上述電鍍槽連通,所述電解槽中放置有陶瓷隔膜電解器,所述陶瓷隔膜電解器包括陰極板、陽極板和電解桶。本實(shí)用新型提供的處理鍍鉻液中雜質(zhì)離子的裝置,可以在電鍍鉻生產(chǎn)不停止的情況下,對鍍鉻液中雜質(zhì)離子進(jìn)行處理,從而實(shí)現(xiàn)不影響電鍍鉻生產(chǎn)的情況下對鍍鉻液中的雜質(zhì)離子進(jìn)行處理。

 

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