HX-K滾鍍珍珠鎳工藝

一﹑特點(diǎn)

1. 本添加劑不含油性﹐不會產(chǎn)生油污懸浮液面。

2. 本添加劑性能穩(wěn)定﹐分解慢﹐使生產(chǎn)可長時間連續(xù)進(jìn)行﹐且操作簡單。

3. 鍍層立體感強(qiáng)﹐潔白光滑﹐不易刮花。

4. 生產(chǎn)中出貨快﹐以最短的時間產(chǎn)生最大的產(chǎn)值﹐可大大降低成本。

5. 本光劑可調(diào)節(jié)鍍層之粗細(xì)及啞白度﹐以適應(yīng)不同需求。

6. 在此鍍層上可再鍍金、銀、鉻、青銅等鍍層。

7. 本光劑掛鍍﹑滾鍍均可。

二﹑鍍液的配比及工藝條件

三﹑添加劑的應(yīng)用及作用

1.本光劑之代號為:  HX-A1   HX-B1  HX-C1

                   HX-A1走位劑:是起沙載體還具有走位作用。

                   HX-B1輔助劑:使鍍層光滑白亮。

                   HX-C1沙 劑:達(dá)到珍珠沙的效果。

2.新開缸之配比為:  HX-A1走位劑:10-15ml/L  標(biāo)準(zhǔn)：12毫升

                   HX-B1輔助劑:4-8ml/L    標(biāo)準(zhǔn)：4毫升

                   HX-C1沙 劑:0.6-1.2l/L  標(biāo)準(zhǔn):0.8毫升

四﹑新開缸

1.      至缸之3/5處﹐加熱到60℃-70℃。

2.      加量之硼酸(此物難溶解,應(yīng)先加入并攪拌至溶解)、硫酸鎳、氯化鎳加入并攪拌至溶解。

3.      加夠水﹐加入1-2 ml/L雙氧水,保溫2小時以上。再加1-2克/L活性碳過濾后作6-8小時之低流電解。

4.      加入應(yīng)加量之HX-A1﹑HX-B1,攪拌之后加入HX-C1(此物必須稀釋20倍-30倍方可加入) ﹐攪拌均勻之后最好先作低電流電解5-10分后即可進(jìn)行生產(chǎn)。

添加劑的消耗量大致如下: HX-A1:50-100ml/1000安培小時

                        HX-B1:150-300 ml/1000安培小時

                        HX-C1:2小時后添加開缸量20%左右

（滾鍍沙劑C添加：一般滾鍍4滾筒后，每滾鍍一筒添加開缸量20%，）

五﹑鍍液的維護(hù)及注意事項(xiàng)

1. 定期測試硫酸鎳﹑氯化鎳﹑硼酸之含量﹐保持足量。

2. PH值的溫度要隨時查看并調(diào)整在規(guī)定范圍內(nèi)。

3. 定期用雙氧水﹑活性碳處理鍍液,使之保持潔凈。

4. 請注意:生產(chǎn)停止時打開過濾機(jī)﹐并經(jīng)常更換清洗棉蕊或炭蕊。生產(chǎn)時無需過濾。

六﹑常見故障及解決方法

七、常見問題處理請參考此標(biāo)準(zhǔn),若需進(jìn)一步詳細(xì)數(shù)據(jù)或咨詢,請致電我司技術(shù)部