公開(kāi)號(hào) 101001982

公開(kāi)日 20070718

申請(qǐng)人 迪普索爾化學(xué)株式會(huì)社

地址 日本東京都

本發(fā)明的目的在于提供一種電鍍方法，該方法使在以往的錫–鋅合金電鍍中成為困難的以短時(shí)間進(jìn)行處理成為可能。本發(fā)明提供一種在鍍液溫度為30 ~ 90 °C、鍍液的攪拌速度為5 ~ 300 m/min 以及陰極電流密度為5 ~ 200 A/dm2的條件下進(jìn)行錫–鋅合金電鍍的方法。該錫–鋅合金鍍?cè)≈械亩r(jià)錫離子濃度為1 ~ 100 g/L、鋅離子濃度為0.2 ~ 80 g/L。