公開日 20070829

發(fā)明人 PALUMBO G, BROOKS I, MCCREA J, HIBBARD G D, GONZALES F, TOMANTSCHGER K, ERB U

涉及一種制備納米晶金屬、金屬合金及金屬基復(fù)合鍍層或自支撐沉積物的工藝。該工藝采用基于脈沖電沉積的輥鍍或選擇性鍍覆的方式，固定陰、陽極兩者中的一個(gè)。公開了新型的納米晶金屬基復(fù)合材料及微元件。描述了一種晶粒尺寸小于1 000 nm的微元件的制造工藝。