公開號(hào)       101906624

公開日       2010.12.08

申請(qǐng)人  中國(guó)科學(xué)院金屬研究所

地址  遼寧省沈陽(yáng)市沈河區(qū)文化路72號(hào)

本發(fā)明屬于化學(xué)沉積技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種制備鐵鎳磷化學(xué)鍍層的新方法，該鍍層能廣泛應(yīng)用于(微)電子工業(yè)、宇航及通用工程。該方法通過酒石酸鉀鈉、檸檬酸三鈉、2種具有─N(CH₂COOH)₂基團(tuán)的有機(jī)混合添加劑及氨水組成的復(fù)合配位體系，控制溶液中游離Fe²⁺及Ni²⁺的濃度，抑制鎳還原速率的同時(shí)提高鐵還原速率，從而提高鍍層中的鐵含量，該復(fù)合配位體系可與雜質(zhì)離子配位，提高溶液可容納金屬雜質(zhì)離子的濃度，尤其適用于在硅芯片及銅表面制備高鐵含量的鐵鎳磷化學(xué)鍍層。在硅片表面所得鍍層各元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為：Fe 0 ~ 50%(可控)，P 2% ~ 18%，余量為Ni。在銅片表面所得鍍層各元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為：Fe 0 ~ 90%(可控)，P 2% ~ 16%，余量為Ni。