創(chuàng)新一代超高濃縮合成配方，鍍層填平度高達95%；

    鍍層極為光亮，柔韌性好；

    鍍液分散能力好，填平能力十分優(yōu)秀；

    鍍層沒有針孔，具有良好的耐蝕性能；

    鍍液穩(wěn)定，容易操作控制，維護成本低；

    填平能力好酸銅添加劑適用于鋼鐵件、鋅合金壓鑄件、以及塑料件的電鍍中，經(jīng)過必要的前處理后（例如鍍堿銅），作為經(jīng)濟實用的光亮中間鍍層。

2.鍍液組成及操作條件：

3.鍍液配制方法：

    在預備槽中加入二分之一的水，加熱至40－50℃；所用水的氯離子含量應低于70毫克/升，加入所需的硫酸銅，攪拌使其完全溶解。

    加入2.0克/升的活性碳，攪拌一個小時以上，然后用過濾泵將鍍液濾入清潔的電鍍槽中，加水至接近水位。

    慢慢加入所需的純硫酸，同時進行強烈的攪拌，以保持鍍液的溫度不超過60℃。

    將鍍液冷卻至25℃后；再根據(jù)鍍液中氯離子的含量，添加鹽酸或氯化鈉，以使氯離子的含量達到標準值。

    最后加入以上的各種添加劑，以0.5安培/平方分米的電流電解大約2小時，便可以開始電鍍。

4.設備要求：

    鍍    槽：    內(nèi)襯聚氯乙烯或其它各種塑料的鋼槽或者塑料槽。

    冷卻設備：    鍍液溫度過高，不但會使光亮劑的消耗量增大，還會導致低電位區(qū)的光亮度降低；所以配備合適的冷卻設備是十分必要的。

    循環(huán)過濾：    鍍液中的浮游物如灰塵、油脂等均會導致鍍層粗糙、產(chǎn)生針孔或降低光亮度；鍍液最好采用連續(xù)性循環(huán)過濾，過濾泵最少在一小時內(nèi)將鍍液過濾四次。

5.添加劑的作用及補充：

開缸劑810Mu：       開缸劑不足時，會在高、中電位區(qū)出現(xiàn)疏松的條紋狀鍍層；開缸劑過量時，低電區(qū)會產(chǎn)生霧狀鍍層。

主光劑810A：        A含量過低時，整個電流密度區(qū)的鍍層填平度下降；A過量時，低電位區(qū)的填平度會突然變差，形成明顯的分界。

主光劑810B：         B含量不足時，鍍層極易燒焦；而B過量時，會引起低電位區(qū)嚴重起霧。

氯離子的作用及影響： 氯離子在光亮酸性鍍銅工藝中具有極為重要的作用，適量的氯離子可以幫助添加劑發(fā)揮效果，鍍出致密、光亮、平滑的鍍層。如果氯離子含量過低，鍍層在高、中電位區(qū)易出現(xiàn)起伏的條狀，同時在低電位區(qū)有霧狀鍍層出現(xiàn)；如果氯離子含量過高時，鍍層的光亮度和填平度會顯著下降，陽極表面還會出現(xiàn)灰白色的薄膜而發(fā)生鈍化。

6.添加劑的消耗量：

810MU：30－40毫升/千安培小時

810A：　60－80毫升/千安培小時

810B：　30－40毫升/千安培小時