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現(xiàn)代工業(yè)中，電鍍技術(shù)很多，其中激光電鍍是新興的高能束流電鍍技術(shù)，它對(duì)微電子器件和大規(guī)模集成電路的生產(chǎn)和修補(bǔ)具有重大意義。
目前，雖然激光電鍍?cè)?/strong>、激光消融、等離子激光沉積和激光噴射等方面還在研究之中，但其技術(shù)已在實(shí)用。
當(dāng)一種連續(xù)激光或沖激光照射在電鍍池中的陰極表面時(shí)，不僅能大大提高金屬的沉積速度，而且可用計(jì)算機(jī)控制激光束的運(yùn)動(dòng)軌跡而得到預(yù)期的復(fù)雜幾何圖形的無(wú)屏蔽鍍層。
20世紀(jì)80年代又研究出一種激光噴射強(qiáng)化電鍍的新技術(shù)，將激光強(qiáng)化電鍍技術(shù)與電鍍液噴射結(jié)合起來(lái)，使激光與鍍液同步射向陰極表面，其傳質(zhì)速度大大超過(guò)激光照射所引起的微觀攪拌的傳質(zhì)速度，從而達(dá)到很高沉積速度。
