DN-2003用于多層鎳中半光亮鎳添加劑，其特點(diǎn): 多層鎳電位差可調(diào), 整平性、光亮度及韌性都可控制, 對(duì)用戶使用方便, 鍍液抗金屬雜質(zhì)能力強(qiáng), 工藝穩(wěn)定, 大處理周期長(zhǎng)。

一、溶液組成及工藝條件

                                        范 圍                        最 佳

硫酸鎳                        250～300g/L                280g/L

氯化鎳                            40～60g/L                50g/L

硼 酸                                  40～60g/L               50g/L

DN-2003開缸劑                      3～6ml/L              4.5ml/L

DN-2003填平劑                    0.25～1.0ml/L        0.6ml/L

DN-2003輔助劑                    0.3～0.5ml/L           0.4ml/L

BNW-2003潤(rùn)濕劑                        1～2ml/L           1.5ml/L

PH值                                          3.8～4.3                4.0

溫 度                                       50～55℃                52℃

DK                                    2～8A/dm2                     3～6A/dm2

Da                                      1～3A/dm2

攪 拌 空氣攪拌或陰極移動(dòng)

過 濾 連續(xù)過濾

二、鍍液維護(hù)

1.添加劑作用與補(bǔ)充：半光亮DN-2003開缸劑: 新配鍍液或大處理后添加，起提高鍍層韌性和深鍍能力作用。半光亮DN-2003填平劑: 起光亮整平作用，消耗量80～120ml/KAH，填平劑中主光亮劑較足，切勿一次性補(bǔ)加過量(<0.1ml/L=,否則引起漏鍍和韌性下降。半光亮DN-2003輔助劑： 提高鍍層電位差作用，消耗量70～100ml/KAH。

2. 溶液轉(zhuǎn)換

由其它半光亮鎳工藝轉(zhuǎn)換為DN-2003工藝一般可直接按消耗量補(bǔ)加即可, 最好用雙氧水-活性炭處理, 處理之后按開缸量的30～50%添加。