【簡介】

通過正交法進行小槽試驗和Hull Cell試驗，研究了三價鉻電鍍工藝中的pH值、溫度、攪拌、電流密度等工藝條件和參數(shù)對鍍層的影響。在各不同鍍液組成和工藝條件下，充分地分析了鍍層的表觀形貌，確定了最佳鍍液組成和工藝參數(shù)：采用了主鹽和導電鹽均為硫酸鹽的全硫酸鹽體系的三價鉻鍍鉻；當pH=2-3、Jk=15-45 A／dim^2、工作溫度：25—45℃ 時，采取靜鍍的方法可以得到光亮、致密的合格鍍層。

三價鉻電鍍鉻的工藝研究.pdf