【簡介】
通過正交法進行小槽試驗和Hull Cell試驗,研究了三價鉻電鍍工藝中的pH值、溫度、攪拌、電流密度等工藝條件和參數(shù)對鍍層的影響。在各不同鍍液組成和工藝條件下,充分地分析了鍍層的表觀形貌,確定了最佳鍍液組成和工藝參數(shù):采用了主鹽和導電鹽均為硫酸鹽的全硫酸鹽體系的三價鉻鍍鉻;當pH=2-3、Jk=15-45 A/dim^2、工作溫度:25—45℃ 時,采取靜鍍的方法可以得到光亮、致密的合格鍍層。
三價鉻電鍍鉻的工藝研究.pdf