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三價鉻電解液鍍鉻沉積速度的影響因素研究.pdf

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核心提示:三價鉻電解液鍍鉻沉積速度的影響因素研究.pdf

【簡介】

對三價鉻電解液鍍鉻的沉積速度進(jìn)行了實驗研究。對施鍍過程中沉積速度的影響因素電鍍時間、電流密度、溫度做了詳細(xì)的實驗測試, 實驗結(jié)果表明, 為了獲得較高的沉積速度, 施鍍過程中應(yīng)該控制電鍍時間為2 m in, 電流密度為6 A /dm 2, 溫度為45℃, pH 為3.5。

關(guān) 鍵詞:三價鉻電鍍;三價鉻;沉積速度

中圖分類號:TQ153.11 文獻(xiàn)標(biāo)識碼:A

六價鉻鍍鉻有一系列技術(shù)方面和環(huán)保方面的缺陷,這些缺點長期以來對三價鉻電鍍工作者起著激勵的作用[1]。三價鉻電鍍工藝發(fā)展至今,其裝飾性電鍍工藝研究已經(jīng)進(jìn)入逐漸完善成熟的時期,生產(chǎn)應(yīng)用不斷擴(kuò)大。但還存在以下一些缺陷:三價鉻鍍鉻不易鍍?nèi)『胥t,一般只能達(dá)到幾個微米,只能用于裝飾性鍍層 ;目前國內(nèi)研究各種三價鉻工藝都是采用石墨陽極,石墨陽極的缺點主要有;在槽液條件下不
夠穩(wěn)定,電極不斷氧化生成CO2;陽極崩壞形成的碳粉渣會污染鍍液;電極氧化后變薄,引起內(nèi)電阻增大、槽壓增大[3]
本文對Macdermid公司生產(chǎn)的三價鉻電解液在施鍍過程中鉻的沉積速度的影響因素作了詳細(xì)的測試研究,得出了在生產(chǎn)中為了提高鉻的沉積速度應(yīng)該著重管控的項目。
l 實驗部分
1.I 鍍液與工藝流程
1.1.1鍍液配方
本實驗使用的三價鉻電解液由Macdermid公司生產(chǎn)。主要成分為:硫酸鉻130 g/L;硼酸35 g/L;光亮劑0.4~0.6 mL/L;試樣為銅片,陽極為鈦合金。
1.1.2三價鉻電鍍工藝流程
銅片堿洗—→水洗—→酸洗—→水洗—→電鍍鎳—→回收—→冷水洗—→預(yù)浸—→三價鉻鍍鉻—→冷水清洗—→后浸—→水洗—→干燥。
1.2 測試方法
1)沉積速度測定:采用稱量法。
2)極化曲線測定:極化曲線的測定在美國CHI660型電化學(xué)工作站上進(jìn)行,采用三電極體系,對電極(CE)為鉑片,工作電極(WE)為鉻電極,參比電極(RE)為飽和甘汞電極。實驗前,CE和WE依次用丙酮、蒸餾水清洗;RE用鹽橋與電解液相連,實驗前,電解液中先通氮?dú)?5 min以去除溶解的氧。
2 結(jié)果與討論
2.1 電鍍時間對沉積速度的影響
測定電鍍時間對沉積速度的影響,工藝條件為溫度30℃ ,電流密度4 A/dm2,機(jī)械攪拌。試驗結(jié)果如圖1。由圖1可以看出,沉積速度隨電鍍時間的增加而減緩,當(dāng)電鍍時間達(dá)到2 min以后,在從2.5~3 min處沉積速度變得很低,且在電鍍時間超過2.5min之后鍍層表面燒焦的可能性會進(jìn)一步加大。而且,如果時間進(jìn)一步增加,鍍層厚度增加緩慢,這樣電流效率將降得很低。所以電鍍時問控制在2 min比較合適。
2.2 電流密度對沉積速度的影響
在下述的工藝條件下測定電流密度對沉積速度的影響:pH 2.5;溫度30℃ ;時問2 min。試驗結(jié)果如圖2。由圖2可以看出,沉積速度隨電流密度的增加而增加,但當(dāng)電流密度達(dá)到6 A/dm2以后,在6~8A/dm2時沉積速度增加趨勢減緩,沉積速度隨電流密度的增加效果不明顯,在電流密度超過8 A/dm2之后鍍層表面燒焦的可能性會進(jìn)一步加大,所以電
流密度控制在6 A/dm2比較合適。
2.3 溫度對沉積速度的影響
在pH 2.5,電鍍時間2 min,電流密度6 A/dm2機(jī)械攪拌下測得溫度對沉積速度的影響結(jié)果如圖3。由圖3可以看出,沉積速度隨溫度的增加而增加,但當(dāng)溫度達(dá)到45℃以后,在45~60℃時沉積速度增加趨勢減緩,沉積速度隨溫度的增加效果不再明顯。而且液體中有明顯微小氣泡產(chǎn)生,為氧氣。所以溫度控制在45℃ 比較合適。經(jīng)過以上實驗研究,生產(chǎn)過程中為了提高鉻的沉積速度,應(yīng)該將電鍍時間控制在2 min,電流密度控制在6 A/dm2,溫度控制在45℃。同時鍍液的pH應(yīng)控制在3.5,在此條件下,鉻的沉積速率較高為4μm/min左右。
……

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