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鋁錳合金表面直流反應(yīng)磁控濺射制備氧化銦錫薄膜:結(jié)論

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結(jié)論

濺射功率為210 W,襯底溫度120 ℃,濺射時(shí)間20 min時(shí),在AlMn合金上制備的IT0薄膜主要生成In203InxSnyOz、InAIMn04、MnSn03等物相,薄膜與基體結(jié)合良好,薄膜納米晶粒細(xì)小。制備上IT0薄膜后,AlMn合金顯微硬度提高,并且具備一定的耐磨損和耐腐蝕能力。

 

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[編輯:吳定彥]

 

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