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公司基本資料信息
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一、工藝特點
1、陰極電流效率高，可達22-27％節(jié)約電能。
2、不含氟、無稀土、無陰極低電流密度區(qū)腐蝕。
3、覆蓋能力強，鍍層均勻
4、鍍層硬度高，可達HV1000以上
5、能產(chǎn)生微裂紋，裂紋數(shù)可控制在400-1000條/厘米
6、電流密度范圍寬，沉積速度快，省工省時
二、操作條件
鉻酐 225-275克/升
硫酸 2.5-4.0克/升
添加劑 15-25毫升/升
溫度 50-65℃
陰極電流密度 30-75A/d㎡
陽、陰極面積比 2-3：1
三、鍍液配制
1、 注入總體積一半的去離子水
2、 加入所需的鉻酐
3、 加入所需的添加劑，加水至體積
4、 取樣分析鍍液中硫酸的含量并調(diào)整至工藝規(guī)定的范圍
5、 電解溶液幾小時后即可試鍍
四、補充說明
1、沉積速度（供參靠）
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陰極電流密度 （A/d㎡） |
30 |
40 |
45 |
60 |
70 |
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陰極電流效率 |
22 |
23 |
24 |
25 |
25 |
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沉積速度（um/h） |
20-30 |
30-35 |
35-50 |
50-70 |
70-80 |
2、普通鍍鉻液轉(zhuǎn)為本工藝，只要化驗鍍液符合規(guī)定標準即可。并確認三價鉻不超過7g/l,三價鐵不超過8g/l
3、鍍鉻添加劑CR-02的補加量為鉻酐的2.5-4％
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